跳转到内容

纳米技术/光刻

来自维基教科书,开放世界中的开放书籍
导航
<< 上一页: 自组装
>< 主页: 纳米技术
>> 下一页: 纳米操纵

向下: EBID 模块


电子束光刻

[编辑 | 编辑源代码]

电子束光刻 (EBL)

纳米压印光刻 (NIL)

[编辑 | 编辑源代码]

纳米压印光刻 (NIL)

聚焦离子束技术

[编辑 | 编辑源代码]

聚焦离子束技术

电子束诱导沉积 (EBID 或 EBD)

[编辑 | 编辑源代码]

扫描电镜中高度聚焦的电子束用于对纳米结构成像,但它也可以用于制造纳米级沉积物。在扫描电镜腔室中存在含碳或有机金属气体的情况下,电子束诱导沉积 (EBID 或电子束沉积 (EBD)) 可用于构建三维纳米结构或焊接/粘合纳米结构。

本手册中有一个专门介绍 EBID 的模块。

参考文献

[编辑 | 编辑源代码]

另请参阅有关编辑此书籍的说明,了解如何添加参考文献 纳米技术/关于#如何贡献



华夏公益教科书